[E-DailySOYEON KIM 记者] 尖端战略技术不能简单地视为某家企业的技术。它是决定国家经济竞争力、企业及产业未来发展动力的核心资产。特别是在像半导体这样技术竞争力直接关系到国家竞争力的产业中，技术的价值已超越企业层面，扩展到国家层面。

技术的成熟需要耗费大量的时间和成本。企业需要投入数年时间进行研发，经历无数次失败和试错，反复调整工艺条件并提高良率。企业的技术竞争力不仅在于技术本身，更在于创造该技术过程中积累的经验和诀窍。

此外，无论工程师多么优秀，都无法独自开发尖端技术。技术外泄，无异于将凝聚了所有人努力与汗水的经验全盘拱手相让。

技术外泄的真正危害在于，它使竞争对手得以完全跳过领先企业历经数年的试错与失败过程。这相当于帮助竞争对手以相对较少的成本和时间，缩小了企业投入巨额研发经费和人力才建立起来的技术差距。

据称，SK海力士员工跳槽至中国华为的过程中泄露的“混合键合”技术，是实现下一代高带宽内存（HBM）多层堆叠的关键核心技术。正因为这是实现HBM多层堆叠的关键技术，因此可能直接关系到未来的半导体竞争力。

三星电子的员工将DRAM开发中的半导体制造工艺配方——工艺综合程序书（PRP）——移交给了中国创新存储（CXMT），可以说这为CXMT成长为全球第四大内存厂商奠定了基础，这绝非夸大其词。企业辛勤积累的技术被窃取，无异于国家竞争力的一部分被剥夺。

围绕技术外流的诱惑正日益加剧。若相较于窃取技术所能获得的利益，相应的惩罚和责任却过于轻微，就很难根除这种“技术掠夺”行为。

窃取技术是窃取国家未来的重大犯罪。若将多年来与同事共同积累的技术为个人利益而窃取，并加速了竞争国的追赶，就必须追究与其造成的损害相称的责任。为了守护技术并保持超额领先优势，必须对技术外泄犯罪予以严厉惩处。