[E-DailyShin Ha-yeon 记者] #MDVICE 获得了一项旨在提高高带宽内存(HBM)制造工艺可靠性的技术专利。
半导体专业企业M-Device于1日宣布,已获得关于HBM制造方法的专利授权。该技术采用先将形成介电层的核心芯片与基底晶圆进行键合,随后在核心芯片上形成硅通孔(TSV),从而与下层堆叠结构建立电气连接的方式。
与传统工艺先在核心芯片上预先形成TSV和金属焊盘后再进行键合的结构不同,该技术的特点在于改变了工艺顺序:先进行介电层键合,随后形成TSV以完成电气连接。
公司方面解释称,通过这种方式,可以减轻金属焊盘“Cu Dishing”工艺的负担,并改善在预先形成金属焊盘过程中可能出现的氧化层侵蚀(Oxide Erosion)、高温退火导致的晶圆翘曲(Warpage),以及因Dishing深度和均匀度偏差引发的裂纹(Crack)和接缝(Seam)等缺陷问题。
鉴于HBM被广泛应用于AI加速器、GPU、HPC、数据中心等高性能计算系统的核心内存,该公司计划以该专利为基础,逐步扩大其在下一代HBM及尖端封装市场的应对能力。
除了开发HBM等先进半导体封装技术外,M-Device还通过子公司扩大无人机业务。其子公司Nepar基于高性能NXP微控制器(MCU)开发了无人机飞行控制器(FC),并正与当地企业商讨产品应用及供应方案,以进军印尼农用无人机市场。在台湾防务及无人机市场,该公司也正在进行报价提交和业务洽谈。
业绩也呈现增长态势。M-Device今年上半年的销售额为486亿韩元,同比增长7%;营业利润为79亿8000万韩元,增长54%。
M-Device相关人士表示:“此次专利技术旨在改进现有HBM制造工艺中可能出现的金属垫片键合和晶圆变形问题,并在高层叠结构中实现更稳定的电气连接”,并称“今后计划持续加强在HBM及尖端半导体封装领域的技术竞争力”。
半导体专业企业M-Device于1日宣布,已获得关于HBM制造方法的专利授权。该技术采用先将形成介电层的核心芯片与基底晶圆进行键合,随后在核心芯片上形成硅通孔(TSV),从而与下层堆叠结构建立电气连接的方式。
与传统工艺先在核心芯片上预先形成TSV和金属焊盘后再进行键合的结构不同,该技术的特点在于改变了工艺顺序:先进行介电层键合,随后形成TSV以完成电气连接。
公司方面解释称,通过这种方式,可以减轻金属焊盘“Cu Dishing”工艺的负担,并改善在预先形成金属焊盘过程中可能出现的氧化层侵蚀(Oxide Erosion)、高温退火导致的晶圆翘曲(Warpage),以及因Dishing深度和均匀度偏差引发的裂纹(Crack)和接缝(Seam)等缺陷问题。
鉴于HBM被广泛应用于AI加速器、GPU、HPC、数据中心等高性能计算系统的核心内存,该公司计划以该专利为基础,逐步扩大其在下一代HBM及尖端封装市场的应对能力。
除了开发HBM等先进半导体封装技术外,M-Device还通过子公司扩大无人机业务。其子公司Nepar基于高性能NXP微控制器(MCU)开发了无人机飞行控制器(FC),并正与当地企业商讨产品应用及供应方案,以进军印尼农用无人机市场。在台湾防务及无人机市场,该公司也正在进行报价提交和业务洽谈。
业绩也呈现增长态势。M-Device今年上半年的销售额为486亿韩元,同比增长7%;营业利润为79亿8000万韩元,增长54%。
M-Device相关人士表示:“此次专利技术旨在改进现有HBM制造工艺中可能出现的金属垫片键合和晶圆变形问题,并在高层叠结构中实现更稳定的电气连接”,并称“今后计划持续加强在HBM及尖端半导体封装领域的技术竞争力”。