[E-DailyBAEK JU-A 记者] 一名因涉嫌为跳槽至中国公司而窃取SK hynix(000660)商业机密而被起诉的前员工，在二审中再次被判处有期徒刑。

据9日法律界消息，首尔高等法院刑事10-1庭（高等法院法官李相浩、李在信、李惠兰）近日对因涉嫌违反《产业技术保护法》、《反不正当竞争法》及职务背信被移送审判的金某，判处有期徒刑1年6个月，与一审判决一致。

金某曾在SK海力士中国当地子公司工作，被指控于2022年擅自泄露该公司CIS（CMOS图像传感器·将光转换为数字信号的半导体元件）相关尖端技术和商业秘密，并非法使用、泄露。

调查显示，他是在收到中国最大通信设备制造商华为的子公司海思等公司的跳槽邀请后实施了上述犯罪行为。

调查显示，金某为撰写简历，违反了安全规定，从公司内部文档管理系统中打印或拍摄商业秘密资料并予以泄露。

部分机密资料的内容确实被引用在简历中，并泄露给了中国公司。

一审法院认定金某泄露商业秘密的指控成立，判处其有期徒刑。

不过，关于泄露用于人工智能（AI）的高带宽内存（HBM）实现所需技术——混合键合（Hybrid Bonding）相关资料的指控，被判定为无罪。

理由是，金某泄露的资料中所包含的混合键合技术，不能被视为符合韩国产业通商资源部《尖端技术及产品范围》公告中规定的尖端技术。

二审认为，一审的这一判决不存在事实认定错误或法律适用错误等违法之处。

关于量刑，法院指出：“被告大量泄露商业秘密，并利用这些信息制作简历转交中国公司，其罪行性质严重。”

随后，法院严厉指出：“该商业秘密是受害公司经多年投入大量资源才取得的成果，若对侵权犯罪从轻处罚，企业将失去致力于技术开发的动力，且会导致海外竞争对手以引进人才为名，轻易窃取国内企业通过艰苦努力积累的技术实力。”

不过，法院在量刑时将金某对犯罪事实全部供认以及大部分泄露的商业秘密已被追回等情节视为有利因素予以考虑。