[水原=E-DailyHwang Young-min 记者] 京畿道知事秋美爱向三星电子和SK海力士下达了关于半导体工厂排放水水质管理的行政指导。这是继今年7月要求提高半导体工艺水再利用率、8月要求减少废水排放量之后的第三次行政指导。

28日，京畿道表示，已向SamsungElectronics(005930)和SK hynix(000660)下达行政指导，要求其制定旨在降低半导体工厂排放水中氯离子和硫酸根离子浓度的自主管理标准及减排对策。

此前，京畿道保健环境研究院根据秋知事的指示，对SK海力士工厂排放水流入的利川竹堂川一带的水质进行了三次调查，结果显示，排放口下游0.4公里处的氯离子平均浓度为731mg/L，硫酸离子为1,561mg/L，均超过了联合国粮食及农业组织（FAO）提出的农业用水相关建议标准。 氯离子和硫酸根离子的浓度过高，可能会影响作物生长等。目前，韩国国内尚未针对氯离子和硫酸根离子制定单独的河流水质标准。

此次行政指导是针对SK海力士龙仁半导体集群普通产业园区的生产设施（Fab）全面投产后，为防范排放水流入安城高三水库而采取的措施。 这是因为高三水库被用作农业用水。京畿道曾于今年8月向气候能源环境部提议，要求尽快制定针对龙仁SK海力士厂区氯化合物及硫及其化合物的许可排放标准。

该省通过致两家企业的行政指导公文建议，在政府制定许可排放标准之前，应自行设定氯化合物（含氯离子）及硫及其化合物（含硫酸根离子）的管理标准，并制定降低浓度的方案。
秋知事于前一天（27日）召开了关于龙仁半导体产业集群等半导体产业相关现案的会议，要求采取先发制人的水质管理措施，以最大限度地减少半导体生产场所排放的废水对周边河流和农业用水的影響。

京畿道相关官员解释道：“鉴于今后随着半导体生产设施的扩建，用水量和废水排放量预计将增加，因此计划确认政府制定许可排放标准的情况，并持续调查周边河流和高三水库的水质。”